Назад
Песков, Шандор Григорьевич
Инженер-технолог
ОАО "НИИМЭ и Микрон"
Россия, Москва
Доклад
Баранов Г.В.
*
,
Итальянцев А.Г.
**
,
Орлов О.М.
***
,
Песков Ш.Г.
****
Особенности радиационно-стимулированной диффузии As в структуре SiO2/Si
*
ОАО "Научно исследовательский институт молекулярной электроники" (Москва), Россия
**
ОАО "НИИ Молекулярной Электроники" (Москва), Россия
***
НИИ МОЛЕКУЛЯРНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ (Москва Зеленоград), Россия
****
ОАО "НИИМЭ и Микрон" (Москва), Россия
К списку участников